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【無錫冠亞】循環(huán)加熱器 半導體用溫控設備，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

【無錫冠亞】溫控加熱器 半導體溫控設備TES，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

【無錫冠亞】半導體晶圓快速冷卻系統(tǒng) 芯片散熱水冷機，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設計、循環(huán)泵采用磁力驅動泵，經(jīng)過24小時連續(xù)運行拷機。

【無錫冠亞】晶圓冷卻腔體測溫裝置 單晶硅冷卻循環(huán)裝置，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設計、循環(huán)泵采用磁力驅動泵，經(jīng)過24小時連續(xù)運行拷機。

【無錫冠亞】半導體晶圓冷卻裝置 硅片循環(huán)水冷卻機 ，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設計、循環(huán)泵采用磁力驅動泵，經(jīng)過24小時連續(xù)運行拷機。

【無錫冠亞】硅片快速冷卻裝置 晶圓快速水冷機 ，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設計、循環(huán)泵采用磁力驅動泵，經(jīng)過24小時連續(xù)運行拷機。